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移動掩模曝光系統(tǒng)（紫外光刻機）

儀器型號：中國光電URE-2000A/55

購置年月：2012年6月

儀器簡介：

URE-2000系列紫外深度光刻機采用積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應(yīng)、真空曝光和氣浮曝光等技術(shù)，實現(xiàn)了高均勻照明和亞微米高分辨力光刻；采用底面對準技術(shù)，單曝光頭實現(xiàn)高準確度雙面對準曝光；采用積木錯位蠅眼透鏡結(jié)合離軸非球面反射照明等技術(shù)，實現(xiàn)大面積、高能、均勻、冷光、平行曝光；采用雙焦點對準技術(shù)，實現(xiàn)厚膠高準確度對準與套刻。

應(yīng)用范圍：

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域，在LED、MEMS、IC領(lǐng)域及大尺寸光柵、碼盤等刻劃中也具有突出的功能與用途。

技術(shù)參數(shù)：

1. 曝光面積：150mm×150mm

2. 分辨力：0.8-1μm（膠厚2μm的正膠）

3. 對準精度：0.6μm

4. 掩模樣片整體運動范圍：X：6mm;Y:6mm

5. 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸、7英寸

6. 樣片尺寸：直徑15mm-- 150mm；厚度0.1mm--8mm

7. 照明均勻性： 3.5%（100mm 范圍）； 5%（ 150mm范圍）

8. 掩模相對于樣片運動行程：X: 5mm; Y: 5mm; : 6度

9. 最大膠厚：500m(SU8膠，用戶提供勻膠條件)

10. 光源平行性：3.5

11. 汞燈功率：1000W（直流）

12. 曝光設(shè)定方式：定時（倒計時方式0.1s-999.9s任意設(shè)定）

13. 外形尺寸:1400mm（長）1200mm(寬) 2150mm（高）